半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
建设项目背景图案
该厂家专业课程制作半导体芯片用高纯氟化氢和六氟化钨,废水净化处置氟含量不低且因素冗杂。原来净化处置工学院艺视觉效果不固定,氟化物污染物有时不合格。项目流程注资2300万元规划主要净化处置场地设施,设计方案净化处置能力素质500吨/天。
废液因素及从何而来
废水处理一般是来自于生产销售设施清洁工作和有机废气洗滌:
氟阴阳离子浓度值:1500-3500mg/L
含硝酸钠根化合物:2000-5000mg/L
pH值:1-
含微量分析钨、钼等塑料营养元素
处理的工艺过程
造成高密度优势,主要采用"采和+多极沉淀自己+膜治理"加工过程:
废水处理方法处理方法处理池:各类处理有所差异渗透压废水处理方法处理方法
结合的反应池:分时段.加药系统氢钝化钠和氢钝化钙,抑制终极pH至7.5-8.
二沉池反响池:加药PAC和PAM改善析出效果好
斜管沉积池:高效率的固液溶合
多材质滤过器:祛除这些细微颗料
反渗透设备工作会更操作系统:厚度脱盐和除氟
飞灰干化精炼甩干模式:抽滤甩干后飞灰干化清运专业技术妥善处理
免费在线探测平台:实时公交监视器氟化合物含量和pH值
终究体验
处置系統工作信息:
存水氟阳离子年均含量:2800mg/L
溢水氟亚铁离子溶度:3.2mg/L(一般)
氟删去率:99.9%之内
水中水回用率:起到65%
设备自主化的程度高,保证 工业废水整理投入减小30%,年回收公司氟化钙副设备约400吨。