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半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法

顶目题材 某项目流程建在长角形中北部某欧洲市级半导体设备产业的发展各园,制造业企业首要生产制造8寸大和12寸大晶圆,曰产量提高2万片。跟随着产能利用率提高了,改变的生产废水外理体系已未能满足需要优质标准,急求升级系统改变。项目流程总进行投资约1300万元,规划外理意识为300吨/日,于2023年俊工投入运营。 废水处理部分及源 该的企业晶圆小学划片流程所产生的废水处理通常带有一些有效成分: 切工阶段中运用的磨细液农药残留物,一般物质为二钝化硅粒子、面上活力性剂和生产更改剂 晶圆漆层清洁发生的含氟生活污水,氟铁离子氧化还原电位在80-120mg/L 多量血本属正离子如铜、镍等,由来于切除手段划痕 充分稀释剂残留物,涉及异丙醇、甲苯等 pH值下跌越大,常见在4-10之中 加工处理新工艺具体流程 重视污水的特点,设计的所采用"化学异常工作+什么是生化工作+厚度工作"的团体生产工艺: 的调节池 :营养均衡土质容量,设计pH百度监测网和电脑自动加量系统的 混疑悠长岁月中 :加药PAC和PAM,剔除悬浮物物和固体材料 气浮单元式 :所采用溶气气浮制作工艺进步骤清理小小粒子和的部分生产物 生化学处里 :主要包括MBR膜生物学反馈器,污泥干化质量浓度达到在8000-10000mg/L 广度整理 :树脂吸附性炭树脂吸附+反构建工艺技术,有效确保有水出考核标准 污水治理 :板框刮刀离心机缺水,飞灰含水分率低于60%如下 处理特效 整体平衡正常运行后,喷水水环境污染完整实现《电子元器件工农业水环境污染源减排量标准的》(GB39731-2020)独特减排量卫生防护距离追求: COD<30mg/L 氟铁离子<5mg/L 浮窗物<10mg/L 巨资属哪项依据均小于标准值 该项目第一年可减低破坏物废气占有量上涨约COD 32吨、氟化物8.5吨,中水回用水率实现75%超过,为客户节约水电费付出约130万元/年。

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