某半导体材料电源芯片制做厂在晶圆粗加工阶段中，便用硅烷做出硅外加成长，废气排放干洗塔制造高浓硫酸浓度含硅废气。废气还具有pH动荡大（2-11）、硅含氧量高的特质，经典外理方式 易出显硅垢拥堵方面。 污废水 含量及来源地 化工废水主要的的成分为： 融掉性硅酸盐 ：SiO₂质量浓度达1000-1500mg/L 氢空气氧化钾/氢空气氧化钠 ：洗滌塔强酸强碱洗滌液残渣 顆粒硅 ：纳米级级SiO₂固体 痕量砷 ：原石不溶物带去 治疗技术程序 去创新分为"两极与+膜过滤装置+蒸馏晶体"工序： 七级与 ：用CaO改善pH至4-5，制成硅酸钙放置，硅的还原率60%。 一级结合 ：加Na₂CO₃将pH优化至9，进第一步沉定所剩硅，串连用镁剂除砷。 超滤膜体统 ：0.02μm淘瓷膜脱水納米级硅颗粒物，通量维持在80LMH。 MVR蒸发掉器 ：高浓高盐废污水，析出出Na₂SO₄副的产品，水循环率超90%。 最中特效 总硅从1500mg/L减至5mg/L一些 砷水平从0.8mg/L降低0.01mg/L 机系统无积垢运动已经超过2年 去年回收公司浓盐酸钠多晶体约800吨