南京某半导电源芯片制做厂，晶圆制造工作中诞生含硅、氟的唯一性废液，设计的概念进行除理面积1200吨/日。废液材料繁琐，具有纳米技术级硅颗粒状及盐酸，过去进行除理技巧无发达到标准。 废气材质及来历 注意感染物 ：固体硅（100-500nm粒级）、氟铝离子（200-300mg/L）、异丙醇 原因程序 ：晶圆刻蚀废渣（45%）、CMP物理机械厂cnc精密机械加工废渣（40%）、机械设备冲洗器水（15%） 外理加工制作工艺 步骤 信息化进行"化学工业积累+特种车辆膜区分"技术性自驾路线： 钙盐结晶 ：污泥脱水氯化钙快速清理氟化合物（出现CaF2沉淀物） 斜管沉淀池作用 ：符合斜板沉淀池剂完成胶体溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm内径膜挪用微细粒子 反覆盖设计 ：脱盐率>98%，收回率75% 蒸发掉析出 ：浓水段控制氟化物达标排放标准 最后特效 氟化物浓硫酸浓度：<8mg/L（达不到地区一个要求10mg/L） 硅含碳量：<5mg/L 水资量回收率：70%应用于蒸发塔皮肤补水 危险废弃物减轻：化掉渣滓量较过去的工艺缩减60%