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半导体芯片加工废水处理案例|半导体芯片加工废水处理方法

大型项目图片背景 该服务业园积聚了十余家半导体器件相应的客户的,的设计日整理业务能力5000吨,可以整理来自五湖四海的不同客户的的相溶废水治理 治理 方法。致使各客户的生产制造施工工艺对比分析大,废水治理 治理 方法材料繁多善变,整理难易较高。 化工废水因素及起源 电镀化工污水注意涵盖两大类:高盐渗透压有机酸会电镀化工污水(光刻胶、显影液液等)、含氟电镀化工污水(刻蚀繁琐流程)和碱酸电镀化工污水(清洁繁琐流程)。特定物质涵盖异丙醇、四甲基氢阳极氧化铵等难光降解有机酸会物,还有氟化物、氯离子等有机环境破坏物。电镀化工污水COD变化大(500-3000mg/L),氟化物盐渗透压100-500mg/L,氯离子50-150mg/L。 办理工艺设计注意事项 选用"分为采集而来+分质操作+分布深浅操作"的多元化形式 : 工业企业企业内部细分预外理:含氟污废水 另外汇集并预外理 该项目热力管网的分类输送机系统性 综合性调节器池营养均衡水质量 二级混凝土放置取除透明桌面物和胶体溶液 高效化怪物作用器(HBR)处置无机环保问题物 活性氧崔化钝化吸附难工业制硝酸生产物 反覆盖操作系统展开脱盐办理 分光光度计线清洁消毒保证 溢水稳定 尤其是设置成了在线上监测器体系和半自动投药体系,处置水质标准价格波动。 结果是感觉 系統程序运行三年期来,处里用效果稳定的可靠性。冒水COD<30mg/L,氟化物<3mg/L,氧化还原电位<5mg/L,总氮<15mg/L,达到水资源Ⅳ类标准单位,个部分循环于居民小区造林及加热塔保湿,循环率高达30%。第年缩短剥好水用约70万吨,为居民小区制造业企业节约电费上百万块人民币。

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